中国科学院微电子研究所成立于1986年(2003年前名为中国科学院微电子中心)，是中国科学院唯一从事微电子学应用基础研究的研究所。主要任务是：面向国家微电子领域持续发展中的重大科技需求，进行微电子学、超微细和超薄技术、计算机辅助集成电路设计研究；承担重点科技攻关与产品开发；着重开展微电子高技术前沿研究，同时利用所形成的技术、人才和设备优势，积极进行高技术成果的应用开发和生产。

        微电子所现有在职员工四百余人，专业技术人员230人，其中科学院院士2人，研究员33人。研究所设有博士学位和硕士学位授予点， 在读博士、硕士生二百余人。

        1999年，中国科学院批准微电子所为国家“知识创新工程”试点单位。五个研究室在多个学科方向上选择了多个科研项目开展创新试点研究工作。如：“深亚微米集成电路关键工艺模块”；“CMOS/SOC集成电路技术”；“基于‘IP’库的专用集成电路设计”；“高性能专用集成电路设计”；“化合物半导体器件与电路”等。1998年4月，微电子所通过了IS9002质量体系认证。2003年9月正式建立博士后科研流动站。

        中国科学院微电子研究所是国内最早开展亚微米微细加工技术研究的单位，在该领域一直坚持自主创新、技术先进和质量第一的宗旨。从八十年代末期开始，致力于深亚微米及纳米超微细加工技术以及硅和化合物半导体器件及工艺研究。  

        产品（具体型号请点击此处）

        多功能磁增强反应离子刻蚀机 ( RIE / MERIE )

        高密度等离子体刻蚀机 (ICP)

        等离子体增强化学气相淀积(PECVD)系统   

        磁控溅射台(SPUTTER)

　

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